硅与氢氟酸反应的离子方程式是什么

氢氟酸和硅反应的离子方程式是：Si+4HF=SiF4+2H2(H2后面加气体符号）。氢氟酸是氟化氢气体的水溶液，清澈，无色、发烟的腐蚀性液体，有剧烈刺激性气味。熔点-83.3℃，沸点112.2℃，密度0.888g/cm³。

易溶于水、乙醇，微溶于乙醚。

因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离，所以理论上低浓度的氢氟酸是一种弱酸。

具有极强的腐蚀性，能强烈地腐蚀金属、玻璃和含硅的物体。

如吸入蒸气或接触皮肤会造成难以治愈的灼伤。

实验室一般用萤石（主要成分为氟化钙）和浓硫酸来制取，需要密封在塑料瓶中，并保存于阴凉处。